カルナック — オベリスクとハイポスタイルの間 — LL, n°10

商品説明

古代のカルナック遺跡の風景で、オベリスクとハイポスタイルの間を描いており、前景には伝統的な服を着た訪問者がいます。表には英語とフランス語の二か国語の文字が記載されています。裏面には発行者「Lévy et Sétoquin, 44, rue de l'Étuilier, Paris」が記載されています。